中国能造出光刻机吗差距在哪里?

中国目前造不出顶级光刻机，主要差距在光刻镜头、光源和控制系统。荷兰ASML的光刻机有上万个精密零件，中国部分零件依赖进口。比如光刻镜头需要德国蔡司技术，光源由美国企业供应。国内企业正在研发中芯国际的28纳米光刻机，但7纳米以下技术仍落后。华为等企业已投入大量资金攻关，但突破需要时间。

技术难点

光刻机涉及多学科技术，精度要求极高。镜头误差不能超过头发丝的千分之一，震动控制必须达到纳米级别。日本企业垄断部分材料，美国限制高端设备出口。中国需要培养更多专业人才，建立完整产业链。国内实验室已取得一些进展，但距离世界顶尖水平仍有距离。