中国光刻机现在处于什么水平?

中国光刻机目前处于追赶阶段，已能生产90纳米芯片，顶尖企业如上海微电子正在研发28纳米技术。荷兰ASML的7纳米光刻机仍是全球领先，中国芯片制造高度依赖进口设备。华为等企业推动国产替代，但光刻机涉及精密光学、材料等尖端领域，突破需要时间。国内高校和企业联合攻关，逐步缩小与国际差距。

光刻机技术难点

光刻机需要上万零件，精度达纳米级，光源、镜头、工件台是核心挑战。中国企业在光刻胶、光学元件等领域取得进展，但高端光刻机仍依赖进口。美国限制出口，倒逼中国加速自主创新。中科院、中芯国际等机构投入研发，预计未来5年可实现14纳米量产，但7纳米以下技术仍需突破。