刻蚀机主要用于哪方面?

刻蚀机主要用于半导体制造，芯片生产中需要精确雕刻电路图案。手机、电脑、汽车电子等设备都依赖刻蚀技术。光刻机画出电路后，刻蚀机去除多余材料，形成精细线路。晶圆厂每天使用刻蚀机处理数百片硅片，每片可制造上千个芯片。没有刻蚀机，现代电子设备就无法生产。

刻蚀机的工作原理

刻蚀机用等离子体或化学液体腐蚀材料，精度可达纳米级。干法刻蚀用等离子体轰击表面，干干净净；湿法刻蚀用液体浸泡，适合大面积加工。刻蚀机需严格控制温度和压力，避免损伤芯片。先进刻蚀机能处理5纳米以下工艺，是芯片制造的核心设备。刻蚀一整片晶圆约需1小时，完成后需严格检测质量。