无氧铜和高纯铜的区别?

无氧铜和高纯铜的主要区别在于氧含量和纯度。无氧铜的氧含量极低，低于10ppm，而高纯铜的纯度更高，杂质总量控制在5ppm以下。无氧铜常用于电子和通信领域，高纯铜则多用于半导体和精密仪器。两者都具备优异的导电性，但高纯铜在特定工业场景中表现更稳定。

区别

无氧铜：氧含量极低，导电性好，韧性强，适合制造电线和电缆。它的生产成本较低，广泛用于电力传输和音响设备。无氧铜的杂质主要是其他金属元素，如铁或硫，这些元素会影响其耐腐蚀性，但整体性能稳定。

高纯铜：纯度达到99.999%以上，杂质极少，导电率更高。它的表面更光滑，适合精密电子元件和超导材料。高纯铜的生产工艺复杂，价格昂贵，主要用于高科技领域，如芯片制造和航空航天。