真空镀膜与电镀的优缺点是什么区别?

真空镀膜和电镀都是表面处理技术，但原理和应用不同。真空镀膜在真空环境中通过蒸发或溅射沉积材料，形成薄膜；电镀则利用电解原理在金属表面沉积金属层。真空镀膜适合高精度、装饰性强的产品，电镀多用于防腐和耐磨。两者在成本、效果和适用场景上各有优劣。

区别

真空镀膜：通过物理气相沉积在真空中形成薄膜，厚度可控，可达纳米级。工艺复杂，设备成本高，适合塑料、玻璃等非金属材料。优点是膜层均匀、附着力强、颜色多样；缺点是不耐刮擦，大面积处理效率低。常见于手机外壳、镜片等高端产品。

电镀：利用电解溶液沉积金属层，工艺简单，成本低廉。适合金属基底，镀层厚度可达几十微米。优点是硬度高、耐磨、防腐性能好；缺点是环境污染大，颜色单一，处理复杂形状时易出现死角。多用于汽车零件、五金工具等工业产品。