光刻胶是属于有机材料还是无机材料?

光刻胶属于有机材料，主要成分是高分子聚合物。常见的光刻胶包括酚醛树脂、聚酰亚胺等有机化合物。这些材料经过光化学反应后，能形成稳定的图案层。光刻胶在芯片制造中用于转移电路图案，其性能直接影响芯片精度。不同类型的光刻胶适用于不同工艺需求，如正胶和负胶的区别。

光刻胶的组成

光刻胶由树脂、感光剂和溶剂三部分组成。树脂提供基础结构，感光剂决定曝光反应，溶剂调节粘度。例如，g线光刻胶含重氮萘醌感光剂，而KrF光刻胶用丙烯酸酯树脂。光刻胶的厚度一般在0.5到5微米之间，涂覆后需经过软烘去除溶剂。显影时，曝光部分溶解或保留，形成所需图案。