光刻机是哪几个国家研发的?

光刻机主要由荷兰、日本和美国研发。荷兰的阿斯麦公司掌握最顶尖的极紫外光刻技术，全球市场占比超过90%。日本的尼康和佳能也能生产深紫外光刻机，用于成熟制程芯片制造。美国的英特尔、应用材料等企业提供关键设备和材料支持。这些国家通过长期技术积累和产业链协作，形成光刻机研发的核心力量。

光刻机研发背景

光刻机研发需要光学、精密机械和化学等多领域技术突破。荷兰投入50年研发才实现7纳米制程光刻机量产。日本在1980年代曾占据全球70%市场份额，后因技术路线失误被超越。美国通过《芯片法案》投入520亿美元扶持本土光刻产业链。中国华为等企业也在努力研发国产光刻技术，但与国际顶尖水平仍有差距。