光刻机最早在哪个国家?

光刻机最早出现在荷兰。1984年，荷兰公司ASML研发出第一台光刻机。这台机器用于半导体制造，能将电路图案印在硅片上。ASML最初只是小企业，后来成为全球光刻机龙头。日本和美国也曾研发光刻机，但荷兰的技术领先至今。如今，ASML的光刻机占据全球市场90%份额，芯片制造离不开它。

光刻机的技术突破

光刻机技术不断升级，从紫外光到极紫外光。荷兰科学家发明了双重曝光技术，精度提升到纳米级别。ASML的EUV光刻机能制造7纳米以下芯片，一台售价超过1亿欧元。韩国、台湾地区的芯片厂都依赖荷兰设备。中国也在努力研发光刻机，但差距仍很大。光刻机被誉为“现代工业皇冠上的明珠”。