时间:01-17人气:19作者:蓶伱专属
外延层是半导体器件的重要部分,主要由砷化镓、磷化铟或氮化镓等化合物材料制成。这些材料具有特殊的电学性能,适合制造高频、高功率器件。外延层的厚度通常只有几微米,但成分和结构需要精确控制。不同材料的外延层用途也不同,比如砷化镓用于手机信号放大,氮化镓用于快充芯片。
外延层的制造工艺
外延层通过金属有机化学气相沉积或分子束外延技术生长。这些工艺需要在超高真空环境下进行,温度高达1000摄氏度。生长过程中,原子会像搭积木一样一层层排列,形成晶体结构。外延层的纯度要求极高,杂质含量要低于十亿分之一。完成后还要经过多次检测,确保没有缺陷或裂纹。
注意:本站部分文字内容、图片由网友投稿,如侵权请联系删除,联系邮箱:happy56812@qq.com