德国光刻机多少纳米?

德国光刻机主要生产7纳米以下制程的芯片。ASML的EUV光刻机由德国蔡司提供核心镜头，精度达到13.5纳米。英特尔的7纳米芯片、台积电的5纳米芯片都依赖这些设备。德国企业也生产深紫外光刻机，用于28纳米以上制程。中国中芯国际曾购买德国DUV光刻机，生产14纳米芯片。

光刻机技术难点

德国光刻机零件超过10万个，精度误差小于1纳米。镜片需要抛光至原子级别，一台设备重达180吨。工作时车间温度波动不能超过0.1摄氏度。光刻机每秒发射5万次激光，持续工作24小时不停机。维护一次需要工程师团队耗时3周，成本高达数百万欧元。