时间:01-17人气:12作者:笑脸逢迎
国产光刻机近年取得突破,28纳米工艺已实现量产,14纳米设备正在测试。上海微电子、中芯国际等企业主导研发,光源、物镜等核心部件逐步国产化。光刻机产业链涉及精密机械、光学材料、控制系统等,国内企业如福晶科技、华特气体已能供应部分材料。但高端光刻机仍依赖进口,7纳米以下工艺差距明显。
国产化进展
国产光刻机研发投入逐年增加,2023年相关企业研发经费超百亿元。高校与科研院所参与技术攻关,清华大学、中科院等单位取得多项专利。国内半导体厂商开始试用国产设备,良率逐步提升。但光刻机制造涉及数千家供应商,部分高端材料仍需进口。未来还需突破光源稳定性、镜头精度等技术瓶颈。
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