4纳米光刻机和16纳米有什么区别?

4纳米光刻机和16纳米的主要区别在于制程精度和应用领域。4纳米属于更先进的工艺，能制造更小、更高效的芯片，主要用于高端处理器和人工智能芯片；16纳米则成熟稳定，适合消费电子和一般集成电路，成本较低。

区别

4纳米光刻机：采用极紫外光技术，精度达到原子级别，能刻画更密集的电路，芯片性能提升约30%，功耗降低20%左右。主要用于手机旗舰芯片、服务器处理器等高端领域，技术门槛高，造价昂贵，全球仅少数企业掌握。

16纳米光刻机：使用深紫外光技术，工艺成熟，良品率高，成本约为4纳米的1/3。常见于中端手机芯片、物联网设备等，性能满足日常需求，适合大规模生产，市场普及率广，技术难度相对较低。