芯片刻蚀机和光刻机的区别?

芯片刻蚀机用于在芯片表面雕刻微细电路，光刻机则通过光线将电路图案转移到芯片上。两者是芯片制造的关键设备，但功能完全不同。

区别

芯片刻蚀机：通过物理或化学方法去除芯片表面多余材料，形成凹槽或孔洞。精度可达纳米级，每小时处理数百片晶圆，适合深度加工。依赖等离子体或化学液体，操作环境需严格控制温度和压力。

光刻机：利用紫外线或极紫外光，将掩膜版上的电路图案投射到芯片表面，类似“拍照”技术。精度更高，可达到几纳米级，每小时处理约50片晶圆，依赖精密光学系统。对环境洁净度要求极高，需在无尘室内运行。