真空镀膜与电镀的区别?

真空镀膜是在真空环境中通过物理或化学方法在物体表面镀上一层薄膜，而电镀则是利用电解原理在金属表面沉积金属层。两者的工艺、环境和应用领域有明显不同。

区别

真空镀膜：在真空腔体内完成，通过蒸发或溅射技术使材料气化后沉积在物体表面。适合塑料、陶瓷等非金属材料，镀层厚度可达几微米。工艺复杂，成本较高，但镀层均匀、附着力强，常用于高档电子产品和光学元件。

电镀：在电解液中通过电流使金属离子还原沉积在导电物体表面。只适用于金属制品，镀层厚度一般为几微米到几十微米。工艺简单，效率高，成本低，但镀层易受环境影响，多用于五金件和装饰性镀层。