刻蚀和腐蚀的区别?

刻蚀是利用化学或物理方法有选择地去除材料表面特定区域的过程，常用于半导体制造和精密加工，精度高可控性强。腐蚀则是材料因环境因素（如酸、碱、潮湿）发生的自发损耗，多指金属在自然条件下的损坏，难以精确控制。

区别

刻蚀：通过光刻胶等掩模保护特定区域，使用等离子体、化学溶液或激光精确去除未保护材料，线条宽度可达纳米级，适合制造芯片、微机电系统等高精度器件，成本高但效果可控。

腐蚀：材料暴露在腐蚀性介质中，表面发生电化学反应或氧化，导致均匀或不均匀损耗，如铁生锈、铜绿，常见于建筑、管道等，无需设备但会降低材料强度和寿命，难以修复。