光刻和激光雕刻的区别?

光刻和激光雕刻都是精密加工技术，但原理和应用完全不同。光刻通过光敏材料曝光和化学腐蚀制造微电子芯片，激光雕刻则用高能激光直接在物体表面刻出图案或文字。前者适合批量生产微小结构，后者适用于个性化定制。

区别

光刻：主要在半导体行业使用，通过掩模版将紫外光照射到涂有光刻胶的硅片上，经过显影和蚀刻形成电路。精度可达纳米级，适合大规模生产芯片。整个过程需要多步化学处理，成本高但效率稳定，主要用于手机、电脑等电子产品的核心部件制造。

激光雕刻：利用激光束瞬间高温烧蚀材料表面，直接雕刻出图案。适用于金属、木材、塑料等多种材料，无需化学处理。加工速度快，可定制复杂图案，常用于工艺品、标牌制作和小批量生产。精度通常在微米级，成本相对较低，适合个性化需求。