时间:01-18人气:27作者:蓶伱专属
芯碁微纳专注于微纳直写光刻设备研发,产品用于半导体显示、PCB等领域;苏大维格则主攻纳米材料与光学技术,产品涵盖防伪标签、裸眼3D等消费应用。两者均属高端制造,但技术路径和市场定位差异显著。
区别
芯碁微纳:以直写光刻技术为核心,提供高精度曝光设备,客户多为电子制造企业。设备单价可达数百万元,单台服务寿命约5-8年。技术壁垒在于光刻头运动控制精度,误差需控制在微米级。国内市场份额约15%,主要竞争对手包括日本东京精密。
苏大维格:聚焦纳米压印与光学膜材料,产品多用于消费电子包装。单卷光学膜价格约2-3万元,年产能超百万平方米。核心优势在于纳米结构复制精度,可实现50纳米以下图案量产。客户包括华为、小米等手机厂商,海外业务占比近30%。
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