14纳米工艺与90纳米光刻机区别?

14纳米工艺是芯片制造中更先进的技术，能生产更小、更高效的芯片；90纳米光刻机则是较老的设备，用于制造较大尺寸的芯片。两者在精度、应用场景和性能上差异明显。

区别

14纳米工艺：采用更精密的光刻技术，能在芯片上集成更多晶体管，每平方厘米可容纳数亿个。这种工艺制造的芯片功耗更低，性能更强，适合手机、电脑等小型电子设备。制造成本高，技术难度大，需要顶尖设备和严格环境控制。

90纳米光刻机：属于较早期的光刻设备，精度有限，芯片上的晶体管尺寸较大，每平方厘米容纳数量较少。这类设备制造的芯片功耗较高，性能一般，多用于家电、汽车等对要求不高的领域。制造成本低，技术成熟，操作相对简单。