纳米制程工艺的区别?

纳米制程工艺是芯片制造中的关键技术，通过缩小晶体管尺寸提升性能。不同工艺节点（如7纳米、5纳米）在晶体管结构、材料选择和制造方法上存在差异，影响芯片的功耗、速度和成本。

区别

7纳米工艺：采用FinFET晶体管结构，通过鳍片设计控制电流泄漏，适合高性能计算。制造中依赖多重曝光技术，成本较高，但能平衡性能与功耗，广泛应用于高端处理器。

5纳米工艺：引入GAA（环绕栅极）架构，电流控制更精准，减少漏电。使用EUV（极紫外光刻）技术，提升精度，降低多层曝光步骤。性能提升约20%，功耗降低15%，适合移动设备和AI芯片。