真空炉和气氛炉的区别?

真空炉是在无氧环境下加热设备，气氛炉则是在特定气体环境中工作。两者主要区别在于工作环境、适用材料和工艺效果。

区别

真空炉：通过抽走空气创造无氧环境，防止金属氧化，适合处理高纯度材料。温度可达2500度，常用于航空航天零件和半导体材料。加热均匀，但设备成本高，维护复杂。

气氛炉：通入氮气、氩气等气体控制反应，适合批量生产。温度范围广，800到1800度均可，成本较低。可处理普通金属和合金，但气体消耗量大，需定期更换气源。