镜片真空镀膜和普通电镀区别?

镜片真空镀膜和普通电镀的主要区别在于工艺原理和应用效果。真空镀膜在真空环境中进行，通过物理气相沉积形成薄膜，镀层均匀且附着力强；普通电镀则通过电解溶液，利用电流沉积金属层，工艺简单但镀层易脱落。

区别

镜片真空镀膜：在真空腔体内完成，材料以原子或分子形式沉积在镜片表面，形成致密均匀的薄膜。镀层厚度可精确控制，达到几纳米至几微米，能提升镜片的耐磨性、抗反射性和防紫外线能力。适用于高端光学镜片，如相机镜头、眼镜片等，使用寿命可达3年以上。

普通电镀：在电解槽中进行，通过电流使金属离子还原并附着在镜片表面。镀层厚度一般在5-20微米，但均匀性较差，边缘易出现堆积。主要起装饰或基础防护作用，如镀镍、镀铬，但耐腐蚀性较弱，长期使用可能出现氧化或脱落，适合成本敏感的低端产品。