7纳米光刻机和28纳米有什么区别?

7纳米光刻机和28纳米光刻机的主要区别在于制程精度和应用领域。7纳米设备能制造更小的芯片，性能更强、功耗更低，主要用于高端处理器；28纳米设备则适用于中低端芯片，成本更低，量产更成熟。

区别

7纳米光刻机：采用极紫外光技术，精度达到原子级别，可生产手机芯片、服务器处理器等高性能产品。一台设备造价超过1亿美元，全球仅有少数企业能制造。芯片面积小，单颗晶体管数量可达百亿级别，适合5G、人工智能等尖端领域。

28纳米光刻机：使用深紫外光技术，精度适中，成本约为7纳米设备的1/5。可生产汽车电子、物联网设备等主流芯片，单颗晶体管数量约10亿级别。全球产能充足，单台设备年产量可达上万片晶圆，满足大规模工业需求。