蚀刻和光刻哪个好?

蚀刻和光刻各有优势，选择取决于具体需求。蚀刻成本较低，适合简单图形和批量生产；光刻精度高，适合复杂微小结构，但成本较高。

对比

蚀刻：利用化学溶液腐蚀材料表面，操作简单，设备投入少，适合金属、玻璃等硬质材料加工。加工速度快，适合大批量生产，但精度有限，线条边缘不够光滑，无法制作小于10微米的精细图案。

光刻：通过紫外线曝光将图形转移到光刻胶上，再通过蚀刻形成图案。精度极高，可达到纳米级别，适合集成电路、半导体等精密领域。需要昂贵设备和复杂工艺，生产周期长，成本是蚀刻的5倍以上。