中国光刻机和荷兰光刻机哪个先进?

荷兰光刻机技术更先进，尤其在高端芯片制造领域占据主导地位。中国光刻机近年发展迅速，但与荷兰仍有明显差距。

对比

荷兰光刻机：荷兰ASML公司生产的极紫外光刻机（EUV）精度达到13纳米以下，可制造7纳米及以下芯片。一台EUV售价超过1.5亿欧元，全球仅少数企业能购买。其技术涉及全球10多个国家的供应链，集成了最先进的光学、精密机械和控制系统。

中国光刻机：上海微电子生产的90纳米光刻机已投入使用，28纳米技术正在研发。国内企业如中芯国际依赖进口设备，国产化率不足20%。中国光刻机在光源系统和稳定性上仍需突破，但政策支持下研发投入每年增长30%以上。