蚀刻机和光刻机哪个难度大?

光刻机的难度远大于蚀刻机。光刻机需要在纳米级别精确控制光线，制造复杂电路图案，涉及光学、材料、机械等多领域尖端技术。蚀刻机主要用化学方法去除材料，技术门槛相对较低。全球能造高端光刻机的企业屈指可数，而蚀刻机生产商较多。

对比

光刻机：光刻机精度要求达到纳米级，相当于在头发丝直径的万分之一上操作。它需要数百个精密部件协同工作，光源、镜头、工件台等核心部件技术壁垒极高。一台高端光刻机价值上亿元，研发周期长达10年以上，全球仅有ASML等少数企业能生产。

蚀刻机：蚀刻机主要利用化学反应去除材料，精度通常在微米级，技术要求相对宽松。设备结构简单，成本较低，一台普通蚀刻机价格约几十万到几百万。国内多家企业已掌握成熟技术，市场供应充足，应用范围广泛。