光刻机是哪个国家先发明?

光刻机最早由荷兰公司阿斯麦在1984年研发成功。这家企业将光学技术与精密机械结合，制造出第一台商用步进式光刻机。美国企业也曾尝试开发类似设备，但阿斯麦的版本更早投入市场。日本企业在1980年代后期才跟进研发，比荷兰晚了几年。光刻机的诞生标志着芯片制造进入新时代。

光刻机的发展历程

阿斯麦初期产品只能加工微米级芯片，后来不断升级技术。1990年代推出深紫外光刻机，精度达到0.25微米。2000年后推出浸润式光刻系统，将推进到7纳米级别。如今最先进的极紫外光刻机单台售价超过1.5亿欧元，一台机器包含超过10万个零件。全球芯片厂依赖这些设备生产处理器和存储芯片。