上海微电子生产光刻机吗?

上海微电子确实在研发和生产光刻机，目前主要聚焦于成熟制程的光刻设备。公司已推出SSA系列光刻机，覆盖曝光波长365纳米到436纳米，可用于LED、MEMS等领域。这些设备适用于6英寸到12英寸晶圆，分辨率可达微米级。上海微电子的目标是逐步突破更先进的光刻技术，填补国内空白。

光刻机技术挑战

光刻机研发难度极高，涉及光学、精密机械、材料等多个领域。上海微电子需要攻克光源、镜头、工件台等核心部件的国产化问题。目前国际顶尖光刻机已达7纳米以下工艺，而国内设备仍在微米级追赶。上海微电子通过产学研合作，逐步提升技术实力，但与国际巨头仍有差距。