光刻胶是什么产品?

光刻胶是一种用于微电子制造的关键材料，主要用于芯片生产中的图形转移。它涂在硅片表面，通过曝光显影形成精密图案。光刻胶分为正胶和负胶，正胶遇光分解，负胶遇光固化。在5纳米芯片制造中，需要使用极紫外光刻胶，精度可达原子级别。光刻胶的质量直接影响芯片性能和良品率。

光刻胶的应用场景

光刻胶广泛应用于集成电路、LED、光伏等领域。在芯片厂，光刻胶涂覆后需经前烘、曝光、显影等工序。一块12英寸晶圆需涂覆多层光刻胶，总厚度仅几微米。光刻胶研发难度极高，全球仅少数企业能生产高端产品。国产光刻胶正在加速突破，已实现部分28纳米节点产品量产。