时间:01-20人气:10作者:提拉米苏
蚀刻机和光刻机都是半导体制造中的关键设备,但功能不同。光刻机负责将电路图案精准转移到晶圆上,类似“拍照”;蚀刻机则负责去除多余材料,留下图案,像“雕刻”。光刻精度极高,决定最小线宽;蚀刻影响成品良率,两者缺一不可。
工艺流程中的角色
光刻机先“画”出电路轮廓,蚀刻机接着“挖”掉不需要的部分。光刻用紫外光或电子束,蚀刻用化学液体或等离子体。没有光刻,蚀刻无图案可依;没有蚀刻,光刻图案无法成型。两者配合完成芯片的微观结构制造。
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