光刻胶属于什么材料类型?

光刻胶是一种感光材料，主要用于半导体和微电子制造。它分为正性和负性两种类型，正性光刻胶遇光后会溶解，负性则会固化。光刻胶由树脂、感光剂和溶剂组成，涂在硅片上后通过紫外线曝光形成图案。这种材料能精确刻画微米级线条，是芯片制造的关键材料之一。

光刻胶的特性

光刻胶对光线敏感，曝光后会发生化学反应。不同波长的紫外线会影响其固化效果，需要匹配相应的光源。光刻胶的厚度一般在1到5微米之间，过厚会导致图案变形。使用时需在洁净环境中操作，避免杂质影响精度。失效的光刻胶需用特殊溶剂清洗，不能随意丢弃。