光刻机是芯片制造的核心设备之一?

光刻机是芯片制造的核心设备，负责将电路图案精确转移到硅片上。一台高端光刻机包含上万个精密零件，价格超过1亿美元。荷兰ASML公司垄断了全球市场，其EUV光刻机能制造7纳米以下芯片。光刻机精度以纳米计算，误差必须控制在原子级别。中国正在研发28纳米光刻机，已取得阶段性突破。

光刻机的工作原理

光刻机通过紫外线或极紫外光曝光，在硅片上刻出细微电路。光束经过复杂光学系统，在涂有光刻胶的硅片上形成图案。硅片需经过曝光、显影、蚀刻等多道工序。一台光刻机每天能处理数百片硅片，每片可切出上千个芯片。光刻机运行时需保持恒温恒湿，振动幅度不得超过头发丝的百分之一。