中国芯片现在发展到多少纳米?

中国芯片制造技术已达到7纳米水平，部分企业正在研发5纳米工艺。中芯国际、华为海思等公司是主要推动力量。国内生产线逐步完善，但高端光刻机仍依赖进口。芯片设计能力较强，14纳米以下产品已用于手机和服务器。技术突破速度加快，与国际先进水平的差距在缩小。

技术挑战与进展

光刻机是最大瓶颈，荷兰ASML的设备无法交付。国内企业通过多重曝光技术实现7纳米量产，但成本较高。材料设备方面，光刻胶、大硅片等取得突破，但性能待提升。封装技术如Chiplet已达到国际水平，弥补了制造短板。未来3年计划实现5纳米规模化生产。