霍尔效应的u应该为多少?

霍尔效应中的电压U大小取决于磁场强度、电流和材料性质。具体计算公式为U=K×I×B，其中K是霍尔系数。常见金属如铜的U值很小，约几微伏；半导体材料如硅的U值较大，可达毫伏级。实际应用中，U值需根据测量条件调整，比如强磁场下U会显著增大。

影响霍尔电压的因素

霍尔电压U受材料厚度影响，越薄的材料U越大。例如，霍尔片厚度为0.1毫米时，U值比1毫米时高10倍。温度变化也会改变U值，温度每升高10度，硅的U值可能下降5左右。电流I增大时U线性增加，但过大电流会导致发热，反而影响测量精度。