半导体cvd是什么部门?

半导体CVD是化学气相沉积部门的简称，主要负责在硅片表面生长薄膜。这个部门使用气体化学反应，沉积出绝缘层、导电层或保护层。CVD技术能制造出纳米级厚度的薄膜，精度极高。芯片制造中，CVD步骤必不可少，直接影响芯片性能。

CVD的工作流程

CVD部门先处理硅片表面，通入特定气体混合物。高温下气体发生反应，形成固体薄膜附着在硅片上。这个过程需要精确控制温度和压力，确保薄膜均匀。不同气体组合能生产出氧化硅、氮化硅等材料。CVD设备每天可处理数百片硅片，是芯片工厂的核心环节之一。