上海微电子浸润式光刻机多少纳米?

上海微电子的浸润式光刻机目前主要面向成熟制程，技术节点覆盖90纳米到65纳米。这台设备采用193纳米光源和浸润式技术，通过液体介质提高分辨率。国产设备填补了国内空白，但与ASML的7纳米以下高端机型仍有差距。国内晶圆厂已开始试用，逐步实现部分替代进口。

技术应用

这台光刻机可用于制造芯片、传感器和功率器件。上海微电子正研发28纳米版本，预计三年内推出。设备每小时能处理25片晶圆，适合中小批量生产。国内厂商正在测试稳定性，良率逐步提升。未来将向更先进制程迈进，助力半导体产业自主可控。