中国光刻机多少?

中国光刻机目前主要生产成熟制程设备，90纳米以上工艺较为成熟。上海微电子的SSA800/10线光刻机已进入市场，中芯国际等企业在使用。7纳米以下光刻机仍在研发阶段，与荷兰ASML差距明显。国内企业如华为、中科院持续投入，技术逐步突破，但高端光刻机依赖进口情况尚未改变。

光刻机研发进展

中国光刻机研发速度加快，2023年取得多项突破。华虹半导体采购国产光刻机用于28纳米产线，长江存储也尝试国产设备。上海微电子计划2025年交付28纳米光刻机，中科院团队研发的EUV光刻机原型机已完成测试。不过，高端光刻机涉及数千家零部件，国产化率仍需提升。