光刻机技术是哪个国家发明的?

光刻机技术由荷兰公司阿斯麦尔发明，这家企业专注于高端半导体设备研发。1978年，阿斯麦尔推出首台光刻机，随后不断突破技术瓶颈。如今，全球90%以上的高端光刻机都来自这家荷兰企业。光刻机技术融合了光学、精密机械和化学等多学科知识，制造难度极高。

光刻机的技术地位

光刻机被誉为“现代工业皇冠上的明珠”，是芯片制造的核心设备。一台高端光刻机包含超过10万个精密零件，价格可达上亿欧元。美国、日本、德国等国家虽参与研发，但最终整合技术并实现量产的只有荷兰企业。中国华为等公司正努力突破相关技术封锁。