光刻机的核心部件是什么?

光刻机的核心部件是光源系统，包括深紫外光源或极紫外光源。深紫外光源波长193纳米，极紫外光源波长13.5纳米。光源系统决定光刻精度，波长越短，刻线越细。此外，镜头系统、掩模版台和工件台也是关键部件。镜头系统由多组透镜组成，用于聚焦光线。掩模版台承载电路图案，工件台固定晶圆。这些部件协同工作，确保芯片制造精度。

光刻机的技术难点

光刻机技术难点在光源和镜头系统。极紫外光源需要激光轰击锡珠，产生等离子体。镜头系统必须无瑕疵，镜片表面误差需小于0.1纳米。工件台移动精度达纳米级，震动需控制在原子级别。荷兰阿斯麦尔公司整合全球供应链，突破这些技术壁垒。日本尼康和佳能曾主导市场，如今极紫外技术被阿斯麦尔垄断。光刻机研发耗时十年，投入资金超百亿欧元。