光刻胶是什么板块?

光刻胶属于半导体材料板块，是芯片制造的关键原材料。它用于在硅片上绘制精细电路图案，直接影响芯片性能。光刻胶分为紫外光、深紫外光和极紫外光三种类型，不同制程对应不同产品。国内企业如南大光电、晶瑞电材已实现部分产品量产，但高端市场仍依赖进口。光刻胶技术壁垒高，研发周期长达5年以上。

光刻胶的重要性

光刻胶质量决定芯片制程精度，7纳米以下工艺需要极紫外光胶。全球市场被日本JSR、信越化学等企业垄断，占比超80%。中国每年进口光刻胶花费数十亿元。随着国产替代加速，国内企业正在建设新生产线，预计未来5年市场份额将提升。光刻胶研发需要光刻机、化学试剂等配套支持，产业链协同发展至关重要。