时间:01-19人气:17作者:醉丶青楼
光刻机造芯片是以晶圆为单位。晶圆是圆形的硅片,直径常见的有12英寸、18英寸等。芯片制造时,光刻机在晶圆表面涂上光刻胶,通过紫外光曝光,将电路图案转移到晶圆上。一个晶圆可以同时制造数百个芯片,制造完成后需要切割分离。晶圆的直径越大,能生产的芯片数量越多,成本也更低。
光刻机的工作原理
光刻机通过高精度镜头将电路图案缩小后投影到晶圆上。每次曝光只能制作一层电路,复杂芯片需要重复曝光十几次。光刻机的精度以纳米为单位,目前最先进的能达到3纳米级别。晶圆上的芯片排列有固定模式,间距必须精确到微米级。制造过程中,晶圆需要旋转、对准,确保每层电路完美重叠。
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