时间:01-19人气:23作者:霸绝苍生
中国有能力制造光刻机,但技术难度极高。目前最先进的极紫外光刻机由荷兰ASML垄断,涉及全球上万家供应商。中国已突破部分关键技术,如上海微电子的28纳米光刻机已投入使用。华为、中芯国际等企业持续投入研发,国家也提供政策支持。虽然短期内难以追上顶尖水平,但逐步缩小差距是现实目标。
光刻机的挑战
光刻机需要精密光学、机械控制和材料科学等多领域协同。德国蔡司提供镜头,美国应用材料供应部件,全球分工明显。中国正在建立自主产业链,如中科院研发的反射镜技术。人才短缺也是难题,每年培养的工程师不足千人。预计十年内可实现中高端光刻机的国产化,但完全替代进口仍需时间。
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