中国能生产28纳米光刻机吗?

中国已经能生产28纳米光刻机，但技术成熟度不如国际顶尖水平。上海微电子装备公司推出了SSA800/900系列光刻机，可用于28纳米芯片制造。国内企业如中芯国际已用国产设备试产28纳米芯片。不过，高端光刻机仍依赖进口，14纳米以下工艺差距较大。中国正加大研发投入，目标突破更先进制程。

技术突破与挑战

国产28纳米光刻机在光源、镜头和控制系统上取得进步，但稳定性和良品率有待提升。荷兰ASML的EUV光刻机仍垄断7纳米以下市场。中国通过产学研合作，加快光刻机产业链建设。未来5年，中国计划实现14纳米光刻机国产化。技术封锁倒逼自主创新，国产光刻机发展速度加快。