光刻机最先进的是多少纳米?

光刻机最先进的是3纳米技术。荷兰公司阿斯麦尔生产的EUV光刻机能实现3纳米制程，用于制造高端芯片。台积电和三星已用这种技术生产芯片，苹果和英特尔等企业也在使用。3纳米芯片性能更强、功耗更低，但造价极高，一台设备超过1.5亿欧元。

光刻机的技术难点

3纳米光刻机需要极紫外光源，精度达到原子级别。镜片由多层硅和钼制成，反射率超过70%。工作时，机器每秒发射5万次激光，在真空环境下操作。温度控制必须精确到0.001摄氏度，否则会影响精度。制造这种机器需要全球上千家供应商合作，技术壁垒极高。