光刻机的专利还有多久?

光刻机的专利保护期一般为20年，从申请日开始计算。目前，阿斯麦尔、尼康和佳能等公司的核心专利大多在2000年前后申请，部分已进入保护后期。但技术迭代快，新专利不断涌现，实际垄断时间更长。中国等国家也在加速研发，部分技术已实现突破，但高端光刻机仍依赖进口。

光刻机专利现状

光刻机涉及数万项专利，单一企业难以完全覆盖。荷兰阿斯麦尔通过交叉授权和收购，整合了全球关键技术。日本尼康和佳能的专利集中在紫外光刻领域，与阿斯麦尔的极紫外技术形成竞争。中国企业在光源、物镜等细分领域申请专利，但高端系统仍需突破。专利战将持续，技术封锁与自主研发并存。