光刻机专利是哪个国家?

光刻机专利技术由荷兰企业阿斯麦主导，这家公司掌握全球顶尖的极紫外光刻机专利。美国、日本和德国也参与研发，但核心专利多在阿斯麦手中。中国台湾的台积电和韩国的三星是主要客户，依赖阿斯麦设备生产先进芯片。光刻机专利涉及光学、材料和精密制造等多领域技术，壁垒极高。

光刻机的技术壁垒

光刻机零件超过10万个，需要德国蔡司的镜头和美国光源技术。阿斯麦每年投入数十亿研发，专利保护期长达20年。中国中芯国际曾尝试自主研发，但精度差距明显。日本尼康和佳能也持有部分专利，但市场份额不足两成。光刻机专利竞争关乎全球芯片产业链，各国都在加紧布局。