光刻工艺有前途吗?

光刻工艺是芯片制造的核心技术，决定着芯片的精密程度。随着芯片制程不断缩小，光刻技术需要更先进的设备和方法。目前，7纳米以下制程依赖极紫外光刻机，成本高达上亿美元一台。全球只有少数企业掌握这项技术，市场前景广阔。各国都在加大研发投入，推动光刻技术突破瓶颈。

光刻技术的挑战

光刻工艺面临诸多难题，比如光源稳定性、掩模精度和材料限制。设备维护成本极高，一台机器每天运行费用超过10万元。技术封锁也制约了行业发展，部分国家难以获得关键设备。尽管挑战重重，光刻工艺仍是半导体行业不可或缺的一环，未来发展潜力巨大。