时间:01-20人气:12作者:劳资揍你哦
中国已经能制造部分光刻机设备,但高端光刻机仍依赖进口。上海微电子28纳米光刻机已进入测试阶段,7纳米技术还在攻关。光刻机涉及10万个零件,精度要求极高,镜片误差需小于原子大小。国内企业如中芯国际、华为正在加速国产化替代,但技术突破需要时间。
光刻机制造难点
光刻机需要全球供应链支持,荷兰ASML垄断高端市场。德国蔡司提供镜头,美国应用材料供应部件,技术封锁让自主生产更难。中国投入千亿资金研发,但光刻胶、光源等核心材料仍存短板。未来5到10年,中国有望实现中低端光刻机完全自主,高端机型还需持续攻关。
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