光刻机比探月工程还难吗?

光刻机确实比探月工程更难。探月工程有明确目标，技术路径清晰，而光刻机涉及超精密光学、材料、机械等多领域，技术壁垒极高。全球只有少数国家能制造顶级光刻机，一台EUV光刻机包含超过10万个零件，精度要求达到纳米级。探月工程可以分步实现，光刻机却需要全产业链同步突破。

光刻机的技术难点

光刻机最核心的挑战是光源和镜头。EUV光刻机需要产生13.5纳米极紫外光，技术难度极大。镜头系统必须保证无瑕疵，一个微小瑕疵就会导致芯片报废。荷兰ASML公司整合全球顶尖技术，耗时10年才研发出EUV光刻机。相比之下，探月工程虽然复杂，但技术原理相对成熟，难度集中在工程实现上。