时间:01-20人气:27作者:南笙孤风
国产光刻胶质量正在快速提升,部分产品已能满足中低端芯片制造需求。国内企业如南大光电、晶瑞电材等已量产KrF光刻胶,少数企业研发出ArF光刻胶样品。国产光刻胶在成熟制程领域应用逐渐增多,但高端市场仍被日本、美国企业主导。国内厂商通过技术攻关,逐步缩小与国际先进水平的差距。
国产光刻胶的挑战
国产光刻胶面临技术壁垒高、认证周期长等难题。高端光刻胶需要纯度达99.9999%的原料,国内供应链尚不完善。芯片厂对光刻胶的测试需6个月到2年,国产产品进入产线速度较慢。不过,国家政策扶持下,研发投入持续增加,2022年相关企业研发费用同比增长30%。未来3-5年,国产光刻胶在28纳米及以上制程有望实现突破。
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