制造光刻机很难吗?

制造光刻机极其困难，需要全球顶尖技术合作。荷兰公司ASML整合了美国光源、德国镜头和日本材料，耗时10年才研发出EUV光刻机。这台机器有10万个零件，精度达原子级别，误差不超过头发丝的千分之一。一台EUV光刻机售价1.5亿美元，相当于一架波音飞机。

光刻机的技术壁垒

光刻机涉及上千项专利技术，每个零件都要反复测试。镜片研磨需要纳米级精度，一台设备运行时震动不能超过1纳米。光刻机每天生产芯片时，要持续工作24小时不间断。全球只有少数国家能制造出7纳米以下芯片，技术封锁让其他国家难以突破。